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專利預(yù)審常見的形式缺陷

來源:admin  發(fā)布日期:2023-06-21  瀏覽:561
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一、權(quán)利要求書中常見的形式缺陷

實(shí)際的預(yù)先審查工作中,權(quán)利要求書中常見的形式缺陷有:

權(quán)利要求結(jié)尾處沒有使用句號(hào)結(jié)尾或者一個(gè)權(quán)利要求中有兩個(gè)或者兩個(gè)以上句號(hào);

權(quán)利要求沒有使用“其特征是……”或類似用語(yǔ)劃分前序部分和特征部分,或者“其特征是……”或類似用語(yǔ)出現(xiàn)多個(gè);

“權(quán)利要求”錯(cuò)寫為“權(quán)力要求”;

將“根據(jù)權(quán)利要求 × 所述的”錯(cuò)寫為“根據(jù)權(quán)利要求書 × 所述的”;

獨(dú)立權(quán)利要求的主題與請(qǐng)求書、說明書中發(fā)明名稱不一致;

從屬權(quán)利要求的主題名稱與所引用的權(quán)利要求的主題名稱不一致;

獨(dú)立權(quán)利要求中進(jìn)一步限定的技術(shù)特征沒有存在于此技術(shù)特征之前(無引用基礎(chǔ));

從屬權(quán)利要求中進(jìn)一步限定的技術(shù)特征沒有存在于所引用的權(quán)利要求中 ( 無引用基礎(chǔ),并且也未存在于本權(quán)利要求此技術(shù)特征之前的內(nèi)容中);

從屬權(quán)利要求引用在前的權(quán)利要求但沒有寫明所引用的權(quán)利要求編號(hào);

獨(dú)立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求不能引用本身;

一項(xiàng)引用兩項(xiàng)以上權(quán)利要求的多項(xiàng)從屬權(quán)利要求不得作為另一項(xiàng)多項(xiàng)從屬權(quán)利要求的引用基礎(chǔ)(多引多問題);

獨(dú)立權(quán)利要求沒有寫到要引用此獨(dú)權(quán)的從屬權(quán)利要求之前;

語(yǔ)句中存在錯(cuò)別字;

權(quán)利要求中含有類似“優(yōu)選”之類的不確定用語(yǔ);

技術(shù)特征后的附圖標(biāo)記沒有括號(hào);

技術(shù)特征附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)關(guān)系與附圖說明中的對(duì)應(yīng)關(guān)系不一致。

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二、說明書中常見形式缺陷

說明書中常見形式缺陷有:

不是標(biāo)準(zhǔn)的格式:(標(biāo)準(zhǔn)格式包括 5 個(gè)小標(biāo)題,即《專利法實(shí)施細(xì)則》第 17條規(guī)定的說明書應(yīng)當(dāng)包括下列內(nèi)容:技術(shù)領(lǐng)域,背景技術(shù),發(fā)明內(nèi)容,附圖說明和具體實(shí)施方式),不是標(biāo)準(zhǔn)的組成標(biāo)題:例如,說明書中小標(biāo)題“具體實(shí)施方式”寫成“實(shí)施方式”;

缺少上述小標(biāo)題;

說明書沒有按照技術(shù)領(lǐng)域、背景技術(shù)、發(fā)明內(nèi)容、附圖說明和具體實(shí)施方式順序撰寫;

說明書附圖中缺少說明書附圖說明中提及的附圖;

說明書附圖中缺少附圖說明中提及的附圖標(biāo)記;

說明書具體實(shí)施方式中的技術(shù)特征與附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)關(guān)系錯(cuò)誤;

說明書具體實(shí)施方式中的附圖標(biāo)記后有括號(hào)。

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三、說明書摘要常見形式缺陷

說明書摘要常見形式缺陷:摘要文字部分(包括標(biāo)點(diǎn)符號(hào))超過 300 個(gè)字;

請(qǐng)求書常見形式缺陷:請(qǐng)求書中的發(fā)明名稱和說明書中的發(fā)明名稱不一致;

發(fā)明名稱超過 25 個(gè)字;

發(fā)明人姓名填寫重復(fù);

在進(jìn)入快速審查通道時(shí)發(fā)明實(shí)質(zhì)審查請(qǐng)求書中未標(biāo)明放棄主動(dòng)修改的權(quán)利。

我國(guó)《專利法》第 59 條規(guī)定,發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn),說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。在專利撰寫、預(yù)審和審查過程中,權(quán)利要求書中的技術(shù)特征引用問題和附圖標(biāo)記對(duì)應(yīng)問題比較凸出,尤其是在權(quán)利要求書中存在多引多和多個(gè)獨(dú)權(quán)的情形下,技術(shù)方案中更容易出現(xiàn)缺少引用基礎(chǔ)的形式缺陷,導(dǎo)致權(quán)利要求書中相應(yīng)技術(shù)方案的保護(hù)范圍不清楚。另外,說明書具體實(shí)施方式中的技術(shù)特征與附圖標(biāo)記不對(duì)應(yīng)問題也比較常見。


來源:專利資訊


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